Инструменты для проектирования
Дисплеи
Tayon
Neilos
RayCraft
Argo
HoloAir

Установка Neilos

Компактная установка наноимпринт литографии Neilos представляет собой высокоточную и многофункциональную систему для копирования (репликации) микро- и наноструктур. Установка поддерживает УФ-закрепление отпечатанного полимера, что обеспечивает совместимость с широким спектром УФ-отверждаемых резистов
Партнеры и клиенты
Заинтересованный заказчик из области биотехнологий, ищем партера и грантовую поддержку для доработки установки
Интеллектуальная собственность
Заявка на полезную модель находится в процессе подготовки
Уровень готовности
TRL5, изготовлен экспериментальный образец, налажен технологический процесс копирования наноструктур с критическими размерами 500 нм с размерами штампа до 50 мм

Технологии наноимпринта становятся доступными

Подходит для исследований и пилотного производства
Neilos одинаково эффективна для отработки новых технологических процессов и стабильных серийных операций в лабораториях и R&D-центрах
Простой и удобный процесс
Интуитивный интерфейс и работа по рецептам упрощают настройку давления, температуры, экспозиции и параметров разделения штампа и подложки
Гибкость под разные задачи
Система поддерживает УФ-отверждение (405 нм) и работает с мастер-штампами до 150 мм, что позволяет адаптировать процесс под любые форматы подложек
Высокоточная репликация наноструктур
Neilos формирует элементы с размерами от 50 нм и сложной 3D-геометрией, обеспечивая стабильное качество и низкую шероховатость поверхности.

Готова к задачам науки и индустрии

Мелкосерийное производство
Серийные операции по репликации наноструктур с высокой повторяемостью и устойчивым качеством
R&D-лаборатории
Создание прототипов оптоэлектронных и фотонных структур, быстрые эксперименты с параметрами литографии и травления
Университетские центры и учебные лаборатории
Точные расчёты волноводов, проекторов изображения, оптических ядер и корректировка параметров FOV, яркости, контраста и артефактов

Характеристики

Способ отверждения полимера
УФ (405 нм)
Размер области копирования
До 150 мм
Минимальный размер копируемых наноструктур
50 нм
Показатель преломления используемого полимера (n)
1.5
Возможность создания маски для травление (sacrificial mask)
Да

Устройства, разработанные с использованием Neilos

Голографический дисплей HoloAir
Проецирует изображение в воздухе без очков или экранов, реагирующее на прикосновения. Подходит для медицины, ритейла, образования и интерфейсов самообслуживания
AR-очки Argo
Очки дополненной реальности, которые накладывают изображение поверх реального мира, не отвлекая пользователя от основной задачи. Применяются в промышленности, энергетике, строительстве и транспорте

Получите консультацию по использованию Neilos

Поможем оценить возможности Neilos под задачи вашего проекта
Генеральный директор
Арсений Алексеев
Свяжемся с вами в течение 2−3 дней с продуманным решением
Сообщение об успешной отправке!
Made on
Tilda