Технологии наноимпринта становятся доступными
Подходит для исследований и пилотного производства
Neilos одинаково эффективна для отработки новых технологических процессов и стабильных серийных операций в лабораториях и R&D-центрах
Простой и удобный процесс
Интуитивный интерфейс и работа по рецептам упрощают настройку давления, температуры, экспозиции и параметров разделения штампа и подложки
Гибкость под разные задачи
Система поддерживает УФ-отверждение (405 нм) и работает с мастер-штампами до 150 мм, что позволяет адаптировать процесс под любые форматы подложек
Высокоточная репликация наноструктур
Neilos формирует элементы с размерами от 50 нм и сложной 3D-геометрией, обеспечивая стабильное качество и низкую шероховатость поверхности.