Возможности и направления работы
Электронно-лучевая литография (EBL), оптическая литография (Mask-Aligner, Laser Writer), нано-импринт литография
Характеризация (микро- и нано- скопия)
Методами электронной микроскопии (SEM), атомно-силовой микроскопии (AFM), оптической и контактной профилометрии
Создание функциональных оптических покрытий
Методами магнетронного напыления и плазмо-химического осаждения (CVD, PVD, ALD)
Формирование фотонных структур
Методами плазмо-химического и ионного травления (RIE, ICP, IBE)
Оптические измерения свойств материалов
Методами спектрофотометрии, эллипсометрии, спектроскопии Рамана и Фурье, инфракрасной спектроскопии, дифракции рентгеновских лучей (XRD)
Проектирование технологического процесса для изготовления микро- и нано- структур
Включая внедрение подхода DfM (Design-for-Manufacturing)